產品詳情
品名：鈦靶
標準：ASTM B348，ASTM B381，AMS4928
生產工藝：鍛造
規格：直徑100*45、100*40、80*40、72*20(單位:mm)
產品描述：為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學和光學性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應力。密度也是靶材的關鍵性能指標之一。
靶材應用:
鈦靶
標準：ASTM B348，ASTM B381，AMS4928
生產工藝：鍛造
規格：直徑100*45、100*40、80*40、72*20(單位:mm)
產品描述：為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學和光學性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應力。密度也是靶材的關鍵性能指標之一。
靶材應用:
濺射靶材主要應用于電子及信息產業，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等；亦可應用于玻璃鍍膜領域；還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。
靶材分類:
根據形狀可分為：方靶、圓靶、異型靶
鈦靶、鈦靶塊、鈦板靶參數：
牌號:
TA1=GR2， TA2=GR2， TA3=GR3， TA4=GR4（工業純鈦）， TA7=GR6（鈦-5AL-2.5Sn(錫)）
TC4=GR5（鈦-6AL-4v ）, TA9=GR7 鈦-0.2Pd(鈀), 半TC4=GR9=TA18（鈦-3AL-2.5v），
TA8=GR16（鈦-0.05pd）， TA10=GR12（鈦- 0.3mo-0.8ni）
標準：ASTM B348，ASTM B381，AMS4928
鈦圓靶規格：直徑100*45、100*40、80*40、72*20(單位:mm)
鈦板靶規格：厚度8~20*100~300*500~2000(單位:mm)
鈦管靶規格：直徑70*7、70*9、76*10(單位:mm)
亦可應用于玻璃鍍膜領域；還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。靶材分類:
根據形狀可分為：方靶、圓靶、異型靶
鈦靶、鈦靶塊、鈦板靶參數：
牌號:
TA1=GR2， TA2=GR2， TA3=GR3， TA4=GR4（工業純鈦）， TA7=GR6（鈦-5AL-2.5Sn(錫)）
TC4=GR5（鈦-6AL-4v ）, TA9=GR7 鈦-0.2Pd(鈀), 半TC4=GR9=TA18（鈦-3AL-2.5v），
TA8=GR16（鈦-0.05pd）， TA10=GR12（鈦- 0.3mo-0.8ni）
標準：ASTM B348，ASTM B381，AMS4928
鈦圓靶規格：直徑100*45、100*40、80*40、72*20(單位:mm)
鈦板靶規格：厚度8~20*100~300*500~2000(單位:mm)
管靶規格：直徑70*7、70*9、76*10(單位:mm)
